Philips vertaalt het helemaal niet, ik zou het dubbel vermelden.

http://www.extra.research.philips.com/publ/rep/nl-ur/NL-UR19...
· PEB (Post Exposure Bake)
XP-lak is een negatieve fotoresist. Dit betekent dat tijdens het ontwikkelen belichte
delen achter blijven en onbelichte delen verwijderd worden. De lak bestaat uit kleine
polymeerketens. Bij belichting wordt zuur in de lak vrijgemaakt die een crosslink-reactie
tussen polymeerketens in de lak op gang brengt. De grote polymeerketens met
crosslinks zijn minder goed oplosbaar dan oorspronkelijke losse ketens. Hierop berust
het principe van ontwikkelen. Het zuur dat de crosslinkreactie verzorgt, zit na belichting
echter opgesloten in de lak en kan haar werk niet doen. Bij een hoge temperatuur (±100
°Celsius) diffundeert het zuur wel door de lak en maakt onderweg crosslinks tussen de
polymeerketens.
....